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高真空的光譜室、恒溫在38?C?0.1?C。晶體架上的溫控系統，由差動加熱/冷卻系統控制溫度，可對每塊晶體動態調溫。雙重的恒溫裝置，保證了分析晶體的2d值的穩定，從而提高了分析結果的精度。
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