檢測認證人脈交流通訊錄
- SVS-V2000 濺射臺(北京，上海，深圳，成都，西安均有分公司提供服務)
主要功能：
用于半導體工業生產和實驗室樣品制備時，電介質膜和其他半導體膜的蒸鍍工藝。
主要特點:
1 腔體尺寸：600mm-1200mm（或客戶化定制）；
2 可單片或多片同時進行；
3 樣品臺可以行星/旋轉/直線等方式運動；
4 鍍膜速率等參考可控，可對樣品在蒸鍍過程中進行實時監測；
5 通過反應氣體來產生氧化物和氮化物等；
6 全自動的系統。
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