檢測認證人脈交流通訊錄
- FA-2000 反應離子刻蝕機(北京，上海，深圳，成都，西安均有辦事處提供服務)
主要用于微電子、光電子、通訊、微機械、新材料、能源等領域的器件研發和制造。
應用:
器件/IC 的表面打開及內部鈍化層的去除。
主要特征：
1 用戶有好界面: 系統的狀態、無限的程序存儲和屏顯示過程都是標準的配置
2 優秀的腔體設計: 四方的進氣模塊為反應氣體提供了均一的導電系數和對晶元較高的刻蝕速率
3 13.56兆赫300瓦的射頻發生器
4 6吋的電極可以容納最大150毫米的晶園
5 微處理器控制，無限存儲量
6 10.4吋薄膜晶體管顯示器, 結果可打印機及傳到外接顯示器.
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