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LASERTEC sicwen缺陷檢查/評(píng)論裝置 SICA6X
- 這真不是您需要的產(chǎn)品？
- 品 牌：
- LASERTEC
- 主要規(guī)格：
- SiCウェハに最適なコンフォーカル光學(xué)系＋微分干渉の採用 ピット、スタッキングフォルト、キャロットなど結(jié)晶欠陥を高感度に検出 裏面反射光に影響されない安定した欠陥検査 高解像度レビュー機(jī)能 欠陥マップ表示機(jī)能、欠陥分類機(jī)能 オートローダー標(biāo)準(zhǔn)裝備
- 用 途：
- SiCウェハ、エピウェハの出荷?受入検査 SiCエピタキシャル成長プロセスの管理 SiC研磨プロセスの管理 SiCデバイス製造プロセスの管理、キャロットなど結(jié)晶欠陥を高感度に検出 裏面反射光に影響されない安定した欠陥検査 高解像度レビュー機(jī)能 欠陥マップ表示機(jī)能、欠陥分類機(jī)能 オートローダー標(biāo)準(zhǔn)裝備
- 特長 SiCウェハに最適なコンフォーカル光學(xué)系＋微分干渉の採用 ピット、スタッキングフォルト、キャロットなど結(jié)晶欠陥を高感度に検出 裏面反射光に影響されない安定した欠陥検査 高解像度レビュー機(jī)能 欠陥マップ表示機(jī)能、欠陥分類機(jī)能 オートローダー標(biāo)準(zhǔn)裝備 用途 SiCウェハ、エピウェハの出荷?受入検査 SiCエピタキシャル成長プロセスの管理 SiC研磨プロセスの管理 SiCデバイス製造プロセスの管理 仕様 裝置サイズ 2,000mm（W） × 1,700mm（D） × 2,000mm（H） ※裝置本體、検査部ラック、オペレーションデスクを含む） 対応基板サイズ 最大φ6インチ 検査対象ウェハ バルクSiC、エピ膜付SiC スループット 20枚（φ3インチ） / 時(shí)間
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