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四氟化碳,99.999%

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  • 主要規(guī)格:
  • 99.999%
  • 用  途:
    • 產(chǎn)品名稱:四氟化碳,四氟甲烷
      分子式:CF4
      分子量:88.01
      CAS號:75-73-0
      氣體純度:四氟化碳>99.999%,氮?dú)?lt; 5 ppm,氧氣< 2 ppm,總烴< 1 ppm,一氧化碳< 1 ppm,二氧化碳< 1 ppm,水< 2 ppm,
      氣體包裝:40L鋼瓶,30kg/瓶,32kg/瓶。閥門型號:CGA660,或CGA580、CGA590?;虬纯蛻粢?。
      四氟化碳性質(zhì):在常溫下,四氟化碳是無色無臭無味氣體。熔點(diǎn)-150℃(-184℃),沸點(diǎn)128℃,密度1.96g/cm3,臨界溫度-45.67℃,臨界壓力:3.74MPa,介電常數(shù):1.0006(25℃,0.5MPa)。揮發(fā)性較高,是最穩(wěn)定的有機(jī)化合物之一,在900℃時(shí),不與鋼、鎳、鎢、鉬反應(yīng),僅在碳弧溫度下緩慢分解,微溶于水,在25℃及0.1MPa下其溶解度為0.0015%(重量比),然而與可燃性氣體燃燒時(shí), 會分解產(chǎn)生有毒氟化物。
      四氟化碳用途:四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體,高純四氟化碳及其高純氣和高純氧氣的混合氣,可廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄 膜材料的蝕刻,在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產(chǎn)、激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗(yàn)劑、控制宇宙火箭姿態(tài)、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。


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