產(chǎn)品名稱(chēng):四氟化碳,四氟甲烷
分子式：CF4
分子量：88.01
CAS號(hào)：75-73-0
氣體純度:四氟化碳>99.999%,氮?dú)?lt; 5 ppm，氧氣< 2 ppm，總烴< 1 ppm，一氧化碳< 1 ppm，二氧化碳< 1 ppm，水< 2 ppm，
氣體包裝:40L鋼瓶,30kg/瓶,32kg/瓶。閥門(mén)型號(hào)：CGA660，或CGA580、CGA590。或按客戶(hù)要求。
四氟化碳性質(zhì)：在常溫下，四氟化碳是無(wú)色無(wú)臭無(wú)味氣體。熔點(diǎn)-150℃（-184℃），沸點(diǎn)128℃，密度1.96g/cm3，臨界溫度-45.67℃，臨界壓力：3.74MPa，介電常數(shù)：1.0006(25℃,0.5MPa)。揮發(fā)性較高，是最穩(wěn)定的有機(jī)化合物之一，在900℃時(shí)，不與鋼、鎳、鎢、鉬反應(yīng)，僅在碳弧溫度下緩慢分解，微溶于水，在25℃及0.1MPa下其溶解度為0.0015%(重量比)，然而與可燃性氣體燃燒時(shí)， 會(huì)分解產(chǎn)生有毒氟化物。
四氟化碳用途：四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體，高純四氟化碳及其高純氣和高純氧氣的混合氣，可廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄 膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗、太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)、激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗(yàn)劑、控制宇宙火箭姿態(tài)、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。