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晶圓清洗機(jī)晶圓框架上的切粒芯片清洗

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    • 　　進(jìn)口晶圓清洗機(jī)概述：兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對(duì)MEMS和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶獲得干凈的晶圓片和掩模版。 　　NANO-MASTER提供兆聲單晶圓&掩模清洗(SWC)系統(tǒng)，用于*進(jìn)的無(wú)損兆聲清洗。可以適用于易受損的帶圖案或無(wú)圖案的基片，包含帶保護(hù)膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達(dá)到優(yōu)化的清洗效果，兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片上任意位置上的損傷閾值。NANO-MASTER的技術(shù)確保了聲波能量均勻分布到整個(gè)基片表面，通過(guò)分布能量的z大化支持z理想的清洗，同時(shí)保證在樣片的損傷閾值范圍內(nèi)。 　　SWC系統(tǒng)提供了可控的化學(xué)試劑滴膠能力，這使得顆粒從基片表面的去除能力得以進(jìn)一步加強(qiáng)。SWC和LSC具備對(duì)點(diǎn)試劑滴膠系統(tǒng)，可以*節(jié)省化學(xué)試劑的用量的。滴膠系統(tǒng)支持可編程的化學(xué)試劑混合能力，提供了可控的化學(xué)試劑在整個(gè)基片上的分布。 　　進(jìn)口晶圓清洗機(jī)應(yīng)用： 　　帶圖案或不帶圖案的掩模版和晶圓片 　　Ge,GaAs以及InP晶圓片清洗 　　CMP處理后的晶圓片清洗 　　晶圓框架上的切粒芯片清洗 　　等離子刻蝕或光刻膠剝離后的清洗 　　帶保護(hù)膜的分劃版清洗 　　掩模版空白部位或接觸部位清洗 　　X射線及極紫外掩模版清洗 　　光學(xué)鏡頭清洗 　　ITO涂覆的顯示面板清洗 　　兆聲輔助的剝離工 　　硅片和藍(lán)寶石片清洗 　　帶晶圓框架的芯片清洗 　　晶圓清洗機(jī)如有需要?dú)g迎訪問(wèn)以下網(wǎng)址與我們?nèi)〉寐?lián)系 　　http://www.nanochina17.com/NChina-Products-35154828/ 　　https://www.chem17.com/st312447/product_35154828.html

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