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薄膜制備小型磁控濺射儀

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    • 一、產品應用： JS-600M薄膜制備小型磁控濺射儀采用二極（DC）直流濺射原理設計，帶磁控靶頭，有水冷功能。設備操作簡單方便，適用于掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備,非導體材料實驗電極的制作。 磁控濺射為冷濺射，對樣品表面的升溫較低，適用對溫度較敏感的薄膜樣品。用戶可以根據自己的需要自行選擇不同的真空條件，濺射電流。大尺寸的真空腔體設計，滿足大樣品的濺射需求。標配一片金靶，純度為99.999%，為獲得高質量的金膜提供了良好的基礎。 二、JS-600M薄膜制備小型磁控濺射儀配置及技術指標： 1.本系統裝配了水冷卻磁控靶，靶面直徑為50mm； 2.主機規格：L360mm*W300mm*H380mm； 3.靶（上部電極）：金：直徑：50mm，厚度：0.1mm； 4.真空樣品室：直徑：160mm，高：110mm； 5.濺射面積：Ф50mm； 6.工作真空：2×10-1—6×10-2 mbar； 7.離子電流表：0-100mA； 8.定時器：根據濺射習慣設定單次濺射時間； 9.針閥： 配有進氣口，微量充氣調節，可連接φ4*2.5mm軟管； 10.工作室工作媒介氣體：空氣或氬氣等多種氣體； 11.濺射電壓：-1600 DCV； 12.飛躍真空泵（VRD-4）：1.1L/S。 三、產品特點： 1.輕便、濺射面積大； 2.可以濺射鉑、金及銀等金屬； 3.濺射效率高，可水冷降溫； 備注：JS-600M小型磁控濺射儀可適用的靶材：金、鉑、銀。 了解更多：http://www.saintins.com/Products-37429978.html https://www.chem17.com/st538609/erlist_2401778.html

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