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脈沖激光外延制備系統

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    • 脈沖激光外延制備鍍膜系統 (PLDMBE) 憑借著優異的性能,PVD公司生產的脈沖激光沉積分子束外延系統在國內外擁有較多用戶，為眾多老師開啟薄膜外延制備的新篇章。 PVD公司是美國主要制造商，是一家專業從事脈沖激光沉積分子束外延（PLDMBE）和超高真空薄膜沉積系統及組件的設計和制造的公司，提供超高真空薄膜沉積系統，應用于分子束外延、UHV濺射和脈沖激光沉積。產品主要集中在小型研究開發系統，其應用主要包括： 用分子束外延進行半導體材料、ZnO、GaN、SiGe和金屬/氧化物外延生長； UHV磁控濺射磁性薄膜； 脈沖激光沉積超導薄膜、氧化物和陶瓷材料。 脈沖激光外延制備鍍膜系統主要配置： 主腔室，樣品傳輸腔，1100度加熱系統，樣品旋轉，PLD靶材操控器及光路，K-cell熱蒸發源，電子束蒸發源，射頻RF離子源。 應用主要包括： 分子束外延系統（MBE）； GaAs、InP和GaSb外延； HgCdTe外延； GaN、InN和AlN外延； Ⅱ-Ⅵ族外延； SiGe外延； Si/金屬/氧化物外延； 超高真空物理氣相沉積（PVD）系統； 磁控濺射系統； 脈沖激光沉積（PLD）系統； 電子束蒸發系統； 離子束沉積系統； 熱蒸發系統。 脈沖激光外延制備系統 http://www.airtest.net.cn/Products-31158897.html https://www.chem17.com/st17159/product_31158897.html

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