檢測認證人脈交流通訊錄
- 磁控濺射鍍膜機儀器介紹:
美國專業的制造商，擁有20多年豐富的經驗在：電子束蒸發設備、磁控濺射設備、熱蒸發設備等。有以下功能模式：
electronbeamevaporation，電子束蒸發；
resistiveevaporation，熱阻蒸發；
ionbeamassisteddeposition(IBAD)，離子束輔助蒸發鍍膜；
effusioncell，瀉流源。
磁控濺射鍍膜機技術參數：
VacuumChamber:304不銹鋼圓柱形腔體，標準直徑有18英寸和24英寸–scaledtomatchthespecificapplication；
Pumping:分子泵或冷凝泵；
LoadLock:手動傳片或自動傳片,適合各種形狀尺寸的小片到200mm大的圓片，高真空背景傳遞；
ProcessControl:PC/PLC自動控制界面，菜單控制，數據獲取和遠程控制；
In-SituMonitoring&Control:QCM膜厚監控，光學膜厚監控；
RGA殘余氣體分析；
SubstrateFixture:單片，多片，行星式襯底夾具；
SubstrateHolders:可加熱，冷卻，偏壓，旋轉；
IonSource:襯底預清洗，納米表面改性。
DepositionTechniques:
MagnetronSputteringRF,DC,orPulsed-DC，具有射頻濺射，直流濺射，脈沖直流濺射；
ElectronBeamEvaporation，電子束蒸發；
ThermalEvaporation，熱蒸發；
OrganicEvaporationforOLED/PLEDandOrganicElectronics，有機蒸發（用于OLED/PLED和有機電子）；
GlancingAngleDepostion(GLAD),傾斜角沉積
CathodicArcPlasmaDeposition,陰極等離子體輔助沉積。
磁控濺射鍍膜機
http://www.airtest.net.cn/Products-31158914.html
https://www.chem17.com/st17159/product_31158914.html
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