檢測認證人脈交流通訊錄
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RIE反應離子刻蝕機采用 RIE 反應離子誘導激發方式,實現對材料表面各向異性的微結構刻蝕。特別適合于大學、科研院所,微電子、半導體企業實驗室進行介質刻蝕、硅刻蝕、金屬刻蝕等方面研究。使用成本低,性價比高,易維護,處理快速高效。RIE反應離子刻蝕機適用于所有的基材及復雜的幾何構形進行 RIE 反應離子刻蝕。
具體包括:
◆ 介電材料(SiO2、SiNx 等)
◆ 硅基材料(Si,a-Si,poly Si)
◆III-V 材料(GaAs、InP、GaN 等)
◆ 濺射金屬(Au、Pt、Ti、Ta、W 等)
◆ 類金剛石(DLC)
應用領域:
RIE反應離子刻蝕機主要用于微電子芯片、太陽能電池、生物芯片、顯示器、光學、通訊等領域的器件研發和制造。
產品特點
◆7 寸彩色觸摸屏中英文互動操作界面,自動控制監測工藝參數狀態,20 個配方程序,工藝數據可存儲追溯。
◆PLC 工控機控制整個清洗過程,手動、自動兩種工作模式。
◆真空艙體、全真空管路系統采用 316 不銹鋼材質,耐腐蝕無污染。
◆采用防腐數字流量計,實現對氣體輸入精準控制。標配雙路氣體輸送系統, 可選多氣路氣體輸送系統, 可輸入氧氣、氬氣、 氮氣、四氟化碳、氫氣或混合氣等氣體。
RIE反應離子刻蝕機
http://www.plasmacleaning.cn/Products-38022965.html
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