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RIE反應離子刻蝕機

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    • 　　RIE反應離子刻蝕機采用 RIE 反應離子誘導激發方式，實現對材料表面各向異性的微結構刻蝕。特別適合于大學、科研院所，微電子、半導體企業實驗室進行介質刻蝕、硅刻蝕、金屬刻蝕等方面研究。使用成本低，性價比高，易維護，處理快速高效。RIE反應離子刻蝕機適用于所有的基材及復雜的幾何構形進行 RIE 反應離子刻蝕。 　　具體包括： 　　◆ 介電材料（SiO2、SiNx 等） 　　◆ 硅基材料（Si，a-Si，poly Si） 　　◆III-V 材料（GaAs、InP、GaN 等） 　　◆ 濺射金屬（Au、Pt、Ti、Ta、W 等） 　　◆ 類金剛石（DLC） 　　應用領域： 　　RIE反應離子刻蝕機主要用于微電子芯片、太陽能電池、生物芯片、顯示器、光學、通訊等領域的器件研發和制造。 　　產品特點 　　◆7 寸彩色觸摸屏中英文互動操作界面，自動控制監測工藝參數狀態，20 個配方程序，工藝數據可存儲追溯。 　　◆PLC 工控機控制整個清洗過程，手動、自動兩種工作模式。 　　◆真空艙體、全真空管路系統采用 316 不銹鋼材質，耐腐蝕無污染。 　　◆采用防腐數字流量計，實現對氣體輸入精準控制。標配雙路氣體輸送系統， 可選多氣路氣體輸送系統， 可輸入氧氣、氬氣、 氮氣、四氟化碳、氫氣或混合氣等氣體。 　　RIE反應離子刻蝕機 　　http://www.plasmacleaning.cn/Products-38022965.html

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