檢測認(rèn)證人脈交流通訊錄
- THEIA 是一款高性能,穩(wěn)定,靈活,可靠且安全的研發(fā)型原子層沉積系統(tǒng),兼具工業(yè)生產(chǎn)解決方案的優(yōu)勢。THEIA 可進(jìn)行升級改造,從而滿足科學(xué)研究的各種需求,并實現(xiàn)從“研發(fā)”到“生產(chǎn)”的無縫銜接。
產(chǎn)品規(guī)格【藥物粉末包覆】
1. SMFD-ALDTM 超快沉積:12-30 nm/min
2. 低維護(hù)周期:平均每 50 μm 沉積后維護(hù)一次
3. 閥門:可實現(xiàn)<1ms 開關(guān)控制,壽命可達(dá) 1 億次循環(huán),在 220℃ 下長期穩(wěn)定工作
4. 薄膜不均勻度<1%
5. 可容納 3 片 75-300mm 基片,300×300×10mm 的腔室
產(chǎn)品特點(diǎn)
THEIA 解決了困擾 ALD 工藝多年以來的問題:效率與維護(hù)。ALD 雖然擁有較好的膜厚控制與均一性,但因為效率不高,市場容量仍然低于 CVD。Forge Nano 擁有 SMFD-ALDTM 超快沉積技術(shù),可實現(xiàn)快 12-30nm/min 的沉積效率,將 ALD 沉積效率提升到新的高度。同時實現(xiàn)前驅(qū)體高利用率以及低維護(hù)成本,與 CVD 相比,THEIA 的集成減排設(shè)計可以實現(xiàn)污染物“零排放”,避免了環(huán)境污染問題,節(jié)約大量成本,為 ALD 工藝提供了新的參考標(biāo)準(zhǔn)。
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