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化學(xué)拋光機(jī)

　　UNIPOL-1203化學(xué)機(jī)械磨拋機(jī)，適用于CMP平坦化和平滑化工藝技術(shù)，整機(jī)研磨部分采用防腐材料，耐化學(xué)腐蝕，配置自動(dòng)滴料器和精密磨拋控制儀，全自動(dòng)觸摸屏面板，從加工性能和速度上同時(shí)滿足晶圓等面型加工的需求。　　化學(xué)拋光機(jī)的主要特點(diǎn)：　　1、超平不銹鋼拋光盤（平面度為每25mm×25mm小于0.0025mm）。　　2、超精旋轉(zhuǎn)軸（托盤端跳小于0.01mm）。　　3、設(shè)有兩個(gè)加工工位，可分別進(jìn)行控制。　　4、配有全自動(dòng)控制觸摸屏面板，可設(shè)置主軸轉(zhuǎn)速、擺臂速度、磨拋時(shí)間。　　5、配置自動(dòng)滴料器，流量速率可視化調(diào)整，自動(dòng)研磨和拋光。　　6、配置GPC-100A精密磨拋控制儀，可調(diào)節(jié)壓力，修整面型，使磨拋更加方便快捷。　　7、研磨部分采用防腐材料，耐化學(xué)腐蝕。　　化學(xué)拋光機(jī) 　　http://www.sykejing.com.cn/Products-33414602.html 　　https://www.chem17.com/st5171/product_33414602.html

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