供應氨逃逸光譜分析儀品牌批發宜先供

     目前市場上有效、性價比高的高溫氨逃逸光譜分析儀方法，就是TDLAS法。上海宜先采用QCL+TDLAS技術，目標譜線是氨、氮氧化物分子在中紅外波段最強吸收峰。分子光譜學研究表明，氣體小分子中紅外吸收譜線比近紅外吸收譜線強數十倍甚至數千倍，在同樣測量條件下，氨逃逸光譜分析儀檢測精度可達ppb級別，是近紅外TDLAS數十倍。上海宜先與美國知名大學合作，革命性地采用國際領先的半導體QCL（量子級聯激光器）作為激光源，結合穩定可靠的光路設計及信號處理技術，使TDLAS光學傳感技術達到前所未有的精度和穩定性，解決了近紅外氨表穩定性差、精度不高的現狀，可以充分滿足市場需求。

氨逃逸光譜分析儀特點：

• 樣品從采樣到分析全程高溫伴熱，過程無冷點，保證數據不失真
• 系統一體化設計，安裝維護方便
• 智能化控制系統，采樣探頭自動吹掃，高精度控制溫度，溫度超限自動報警，全程分析過程無人值守24H工作
• 可靈活選配NO分析模塊，實現NH3/NO同時測量，提供更科學有效的脫硫脫硝控制數據
• 采用多探頭平均分布方式，準確測量煙道內NH3/NO的平均含量，避免煙道口徑過大時帶來的測量誤差
• 系統可實現多通道同時測量功能，減少用戶設備采購成本