檢測認(rèn)證人脈交流通訊錄
去離子水處理設(shè)備的職業(yè)必要性體現(xiàn)在許多方面。
去離子水/超純水在電子工業(yè)首要是線路板、電子元器材出產(chǎn)中的重要作用日益突出,去離子/超純水水質(zhì)已成為影響線路板、電子元器材產(chǎn)品質(zhì)量、出產(chǎn)成品率及出產(chǎn)成本的重要因素之一,水質(zhì)要求也越來越高。在電子元器材出產(chǎn)中,去離子水/超純水首要用作清洗用水及用來制造各種溶液、漿料,不同的電子元器材出產(chǎn)中純水的用處及對水質(zhì)的要求也不同。
在晶體管、集成電路出產(chǎn)中,去離子水/超純水首要用于清洗硅片,還有少數(shù)用于藥液制造,硅片氧化的水汽源,部分設(shè)備的冷卻水,制造電鍍液等。集成電路出產(chǎn)過程中的80%的工序需求運用高純水清洗硅片,水質(zhì)的好壞與集成電路的產(chǎn)品質(zhì)量及出產(chǎn)成品率聯(lián)系很大。水中的堿金屬(K、Na等)會使絕緣膜耐壓不良,重金屬(Au、Ag、Cu等)會使PN結(jié)耐壓下降,Ⅲ族元素(B、Al、Ga等)會使N型半導(dǎo)體特性惡化,Ⅴ族元素(P、As、Sb等)會使P型半導(dǎo)體特性惡化,水中細(xì)菌高溫碳化后的磷(約占灰分的20-50%)會使P型硅片上的部分區(qū)域變?yōu)镹型硅而導(dǎo)致器材功能變壞,水中的顆粒(包含細(xì)菌)如吸附在硅片外表,就會引起電路短路或特性變差。


