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離子鍍是在真空蒸發鍍和濺射鍍膜的基礎上發展起來的一種鍍膜新技術，將各種氣體放電方式引入到氣相沉積領域，整個氣相沉積過程都是在等離子體中進行的。離子鍍大大提高了膜層粒子能量，可以獲得更優異性能的膜層，擴大了“薄膜”的應用領域。是一項發展迅速、受人青睞的新技術。
離子鍍膜的特點是：鍍膜時，工件（基片）帶負偏壓，工件始終受高能離子的轟擊。形成膜層的膜基結合力好、膜層的繞鍍性好、膜層組織可控參數多、膜層粒子總體能量高，容易進行反應沉積，可以在較低溫度下獲得化合物膜層。
