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氮化硅薄膜窗口

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X-射線薄膜窗口能夠實現軟 X-射線（如真空紫外線）的最大透射率。X-射線越軟，能量越低，穿透能力越差，所需氮化硅薄膜窗口越薄。特別在“離軸”狀態工作（即薄膜與光束成一定角度）時，也需要較薄的薄膜窗口，便于 X 射線的更好穿透。現有技術一般采用計量式或ST氮化硅薄膜，但或ST薄膜具有較高的殘余應力，不夠結實，容易破裂。而且基于 X-射線顯微透射成像需要，氮化硅薄膜對軟-X射線必須滿足有較小的吸收。另一方面，有時我們會提到薄膜窗口透光性能，即視覺上其可以“透視”。如在透光顯微鏡下，薄膜只有超過一定厚度，透光性能才會減弱。在估算薄膜的透光性能時，應當注意吸收界限，如果需要考慮光學性能，吸收界應低于13nm，當吸收界限為13nm時，100nm厚的薄膜透光度為 44%；吸收界限為12.4nm時，透光度降為13%。因此，在氮化硅薄膜窗口、支撐淡化過薄膜的襯底選擇及薄膜、襯底的厚度控制上，以及氮化硅薄膜窗口的射線透過特性上，現有的氮化硅窗口都有缺陷。鑒于上述問題，本實用型設計一種X-射線顯微鏡透射成像用的窗口。本實用新型涉及一種用于同步輻射X射線透射顯微成像時承載工具，特別涉及一種 X 射線顯微透射成像用窗口，包括控制厚度的硅晶片襯底、氮化硅薄膜窗口溝槽、控制厚度的低應力氮化硅薄膜，由于此種氮化硅薄膜窗口選用低應力氮化硅薄膜，比計量式和ST氮化硅薄膜更堅固耐用。本實用新型氮化硅薄膜窗口非常適合應用于透射成像和透射能譜等廣泛的科學研究領域。例如，X-射線（光源透射成像/能譜線站）、TEM、SEM、IR、UV等。氮化硅薄膜窗口成膜光滑，強度大、致密性好，表面平整性很穩定（粗糙度小于1nm），對于X-射線應用沒有任何影響；可應用于高溫領域，能夠承受 1000 度高溫，非常適合在硅晶片襯底表面利用CVD方法生長各種納米材料；具備較好的薄膜窗格透光性能。氮化硅薄膜窗口系列（常規窗口，200um硅片厚度） SN-LDE-505-15 氮化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：50nm SN-LDE-510-15 氮化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：100nm SN-LDE-515-15 氮化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：150nm SN-LDE-520-15 氮化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：200nm SN-LDE-705-25 氮化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：2.5×2.5mm，膜厚：50nm SN-LDE-710-25 氮化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：2.5×2.5mm，膜厚：100nm SN-LDE-715-25 氮化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：2.5×2.5mm，膜厚：150nm SN-LDE-720-25 氮化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：2.5×2.5mm，膜厚：200nm SN-LDE-105-30 氮化硅薄膜窗口，框架：10×10mm，窗口：3×3mm，膜厚：50nm SN-LDE-110-30 氮化硅薄膜窗口，框架：10×10mm，窗口：3×3mm，膜厚：100nm SN-LDE-115-30 氮化硅薄膜窗口，框架：10×10mm，窗口：3×3mm，膜厚：150nm SN-LDE-120-30 氮化硅薄膜窗口，框架：10×10mm，窗口：3×3mm，膜厚：200nm 氮化硅薄膜窗口陣列系列（常規窗口，200um硅片厚度） SN-AR-522-15 氮化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，2×2陣列，膜厚：50nm SN-AR-733-15 氮化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：1.5×1.5mm，3×3陣列；膜厚：50nm SN-AR-1044-15 氮化硅薄膜窗口，框架：10×10mm，窗口：1.5×1.5mm，4×4陣列；膜厚：100nm 氧化硅薄膜窗口系列（常規窗口，200um硅片厚度） SO-505-15 氧化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：50nm SO-510-15 氧化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：100nm SO-520-15 氧化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：150nm SO-705-25 氧化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：1.5×1.5mm，3×3陣列，膜厚：50nm SO-710-25 氧化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：1.5×1.5mm，3×3陣列，膜厚：100nm SO-720-25 氧化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：1.5×1.5mm，3×3陣列，膜厚：200nm 氮化硅薄膜窗口系列（常規窗口，200um硅片厚度） SN-1010-2-AU10 氮化硅基底框架：10×10mm，窗口：2×2mm，膜厚：100nm，金膜厚度：10nm SN-1020-2-AU10 氮化硅基底框架：10×10mm，窗口：2×2mm，膜厚：200nm，金膜厚度：10nm SN-710-2-AU10 氮化硅基底框架：7.5×7.5mm，窗口：2×2mm，膜厚：100nm，金膜厚度：10nm SN-720-2-AU10 氮化硅基底框架：7.5×7.5mm，窗口：2×2mm，膜厚：200nm，金膜厚度：10nm 特殊定制產品 SN-5H5-15 氮化硅基底框架：5×5mm，硅片厚度：200um，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：500nm SN-5H10-15 氮化硅基底框架：5×5mm，硅片厚度：200um，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：1000nm SN-LDE-4-10 氮化硅片100nm-4英寸整張，10×10mm切片其他特殊規格窗口：氮化硅薄膜窗口系列（特殊窗口，200um硅片厚度） SN-LDE-12A-50 氮化硅薄膜窗口，框架：12mm×12mm，窗口：5mm×5mm，膜厚：50nm SN-LDE-12B-50 氮化硅薄膜窗口，框架：12mm×12mm，窗口：5mm×5mm，膜厚：100nm SN-LDE-12C-50 氮化硅薄膜窗口，框架：12mm×12mm，窗口：5mm×5mm，膜厚：150nm SN-LDE-12D-50 氮化硅薄膜窗口，框架：12mm×12mm，窗口：5mm×5mm，膜厚：200nm 氮化硅薄膜窗口系列（特殊窗口，200um硅片厚度） SN-LDE-12A-30 氮化硅薄膜窗口，框架：12mm×12mm，窗口：3mm×3mm，膜厚：50nm SN-LDE-12B-30 氮化硅薄膜窗口，框架：12mm×12mm，窗口：3mm×3mm，膜厚：100nm SN-LDE-12C-30 氮化硅薄膜窗口，框架：12mm×12mm，窗口：3mm×3mm，膜厚：150nm SN-LDE-12D-30 氮化硅薄膜窗口，框架：12mm×12mm，窗口：3mm×3mm，膜厚：200nm 氮化硅薄膜窗口系列（特殊窗口，200um硅片厚度，鍍金屬元素） SN-510-1-Al2000 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，Al膜厚2000nm SN-510-1-Mg2000 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，Mg膜厚2000nm SN-510-1-Cu100 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，Cu膜厚100nm SN-510-1-Fe100 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，Fe膜厚100nm SN-510-1-Mn100 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，Mn膜厚100nm SN-510-1-Ni100 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，Ni膜厚1000nm SN-510-1-Ca1000 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，Ca膜厚1000nm SN-510-1-Ge1000 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，Ge膜厚100nm SN-510-1-Se1000 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，Se膜厚1000nm SN-510-1-Cr100 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，Cr膜厚100nm SN-510-1-Co100 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，Co膜厚100nm SN-510-1-Ga500 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，Ga膜厚500nm SN-510-1-La1000 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，La膜厚100nm SN-510-1-Mo100 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，Mo膜厚100nm SN-510-1-Ti200 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，Ti膜厚200nm SN-510-1-V200 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，V膜厚200nm SN-510-1-Te100 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，Te膜厚100nm SN-510-1-Cd100 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，Cd膜厚100nm 注：我們可以根據您實際需求的規格要求定制，根據加工難度、訂購量，有相應的優惠！同時也提供氮化硅這一系列的技術咨詢服務。

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王

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