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光彈調(diào)制器 昊量供 采購光彈調(diào)制器設(shè)備 光彈調(diào)制器價格
- 這真不是您需要的產(chǎn)品?
- 品 牌:
- 美國Hinds Instruments公司
- 主要規(guī)格:
- 光彈調(diào)制器及配套設(shè)備
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光彈調(diào)制器
所屬類別: ? 調(diào)制器 ? 光彈調(diào)制器及配套設(shè)備
所屬品牌:美國Hinds Instruments公司
產(chǎn)品簡介
美國Hinds Instruments, Inc公司是世界**的(同時也是世界**的一家)光彈調(diào)制器(photoelastic modulators)生產(chǎn)商。Hinds Instruments公司的PEM光彈調(diào)制器可以控制光束的偏振狀態(tài)的改變,調(diào)制速率為20~100kHz。光彈調(diào)制器(PEM)的作用就像一個“動態(tài)的波片”,可以使快軸和慢軸之間產(chǎn)生一個周期變化的折射率差,從而控制透過光束的偏振進(jìn)行周期性的變化。具體而言即,光彈調(diào)制器(photoelastic modulators)通過對線偏振光添一定的相位使輸出光在圓偏振、橢圓偏振、線偏振等狀態(tài)之間井進(jìn)行變化,同時光彈調(diào)制器(PEM)還可以使光在左旋、右旋兩種狀態(tài)之間進(jìn)行切換。
光彈調(diào)制器對比聲光調(diào)制器、電光調(diào)制器、液晶調(diào)制器的獨特之處包括:
? 非常大通光孔徑(15到30mm,標(biāo)準(zhǔn)),同時保持很高的調(diào)制器頻率
? 超大接受角度(市場角)范圍(+/- 20°)
? 波長覆蓋范圍大(170nm~10um,F(xiàn)IR~THZ)
? 高損傷閾值
? 可精確控制相位延遲
美國Hinds Instruments, Inc公司PEM光彈調(diào)制器電學(xué)和光學(xué)頭封裝在不同的部件中。這樣能夠*小化光學(xué)系統(tǒng)單元的尺寸,同樣也使得光學(xué)頭與磁場或真空兼容(當(dāng)這些有需要的時候)。
需要進(jìn)一步了解關(guān)于光彈調(diào)制器原理,請點擊這里
具體詳情請參見昊量官網(wǎng)
應(yīng)用舉例:
光彈調(diào)制器在偏振方向調(diào)制中的應(yīng)用介紹.pdf
Hinds Instruments光彈調(diào)制器主要分為兩個系列:
Series I 系列光彈調(diào)制器使用矩形光學(xué)原件,波長覆蓋紫外、可見光和紅外至1或者2um。
Series II系列光彈調(diào)制器使用對稱或者八角形的光學(xué)原件,波長覆蓋可見和紅外(到中紅外)頻譜區(qū)域。特殊的型號可用于紫外。
Hinds Instruments公司光彈調(diào)制器的光學(xué)頭使用不同的光學(xué)材料,材料的選取主要取決于儀器頻譜透射率的需要。表1列出了通常使用的材料。
相對于Series II八角形光學(xué)元件,Series I矩形的光學(xué)元件在相同厚度的情況下,相位延遲量更少。在紅外波段,這是一個缺點,但是在紫外波段,尤其是真空紫外,這則變成為了一個很大優(yōu)點。
八角形(Series II)光學(xué)元件在給定的厚度下更加的有效率,因此在紅外波段有更多的優(yōu)勢。使用Series II操作低延遲量(例如:深紫外)或許會造成一些問題。
可選選項(規(guī)格和價格會因為客戶需要而改變,詳情詢問昊量光電的工程師)
? 增透膜,Model ARC。防反射膜可用于任何光學(xué)調(diào)制器上,窄帶寬和寬帶寬鍍膜都可得。
? 請聯(lián)系昊量光電關(guān)于頻譜范圍和透射率要求
? 無干涉選項,Model NIO。這一項用于偏轉(zhuǎn)光束路徑,因此**了調(diào)制器干涉
? 特殊頻率,Model SFO。標(biāo)準(zhǔn)的調(diào)制頭配以特殊頻率
? 特殊光學(xué)頭/電學(xué)頭電纜,Model SLHH
? 特殊調(diào)制頭附件,Model SHE。光學(xué)頭可以根據(jù)客戶需要提供特殊形狀
? 真空操作。PEM可用于真空環(huán)境,詳情請詢問Hinds
磁場兼容選項,Model MFC。光學(xué)頭不含任何磁鐵材料,用于強(qiáng)磁場中
基本指標(biāo)
美國Hinds Instruments, Inc公司光彈調(diào)制器相關(guān)文獻(xiàn)請參考:
具體指標(biāo)及文獻(xiàn)下載請參見昊量官網(wǎng)
光彈調(diào)制式反射差分光譜儀的理論分析.pdf
光彈調(diào)制器在偏振方向調(diào)制中的應(yīng)用.pdf
光彈調(diào)制器應(yīng)用的Mueller矩陣分析.pdf
光彈調(diào)制器式多通道反射差分光譜技術(shù).pdf
光彈調(diào)制器定標(biāo)新方法.pdf
光彈調(diào)制差分反射分析系統(tǒng)的建立與應(yīng)用.pdf
使用光彈調(diào)制器測量D-丙氨酸單晶低溫變溫光學(xué)性質(zhì)的研究.pdf
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