一、硅片清洗劑成分概念
晶圓清潔劑廣泛用于光伏，電子和其他行業(yè)中，以清潔硅晶圓； 硅晶片在運(yùn)輸過(guò)程中將被污染，因此必須清潔硅晶片的表面。 通過(guò)清潔去除表面上的有機(jī)污染物，然后溶解氧化膜，因?yàn)檠趸瘜颖?ldquo;污染并污染”，這可能導(dǎo)致外延缺陷； 去除顆粒，金屬等，并鈍化硅晶片的表面。

傳統(tǒng)的RCA清潔方法可以去除硅晶片表面上的金屬，有機(jī)物等，還可以去除小顆粒和其他污染物。

二、硅片清洗劑成分分析
該產(chǎn)品是高濃縮液，主要由鉀鹽，絡(luò)合劑和助洗劑組成。 它具有很強(qiáng)的清潔能力。 它在清潔硅材料方面具有非常出色的性能。 它對(duì)銅，鐵和其他金屬離子具有非常好的性能。 強(qiáng)大的剝離，絡(luò)合和清潔效果，測(cè)試后油漬的清潔率超過(guò)99％。
三、硅片清洗劑參考配方
主要由苛性堿，磷酸鹽，硅酸鹽，碳酸鹽組成
1.在整個(gè)清潔過(guò)程中，清潔人員不得直接觸摸硅片，并且必須戴上橡膠手套以免產(chǎn)生指紋。
2.為了確保清潔硅片的清潔度，在脫膠前控制噴霧漂洗時(shí)間超過(guò)30分鐘。
3.如果在使用過(guò)程中遇到臟膜，白點(diǎn)等問(wèn)題，可以及時(shí)聯(lián)系技術(shù)服務(wù)人員。
4.產(chǎn)品在排放過(guò)程中僅需要簡(jiǎn)單的處理，例如中和，絮凝，沉淀等。 該產(chǎn)品不含重金屬，磷酸和a。 對(duì)于殘?jiān)^多的硅片，可以適當(dāng)延長(zhǎng)清洗時(shí)間
四、硅片清洗劑配方研發(fā)成分分析技術(shù)
成都中科溯源檢測(cè)采用光譜，色譜，質(zhì)譜，能譜，熱譜等圖譜分析技術(shù)對(duì)產(chǎn)品或樣品組成成分、元素或原料等成分進(jìn)行分析，得到產(chǎn)品的配方。
寄樣檢測(cè)：成都高新區(qū)天府三街1599號(hào)4棟1單元28層2814室熊彬君（Tel：152-0846-5276，QQ：1217396428）