主要技術指標

Quanta 400 FEG場發射掃描電子顯微鏡是表面分析重要的表征工具之一，具有靈活先進的自動化操作系統。具有三種成像真空模式--高真空模式、低真空模式和ESEMTM模式，可以觀察分析各種類型的樣品。它可以對處理過的樣品和未處理的原始樣品提供微米、納米級表面特征的圖像和微觀分析數據。在生物學、地質、醫學、金屬材料、高分子材料、化工原料、考古以及其他領域中得到日益廣泛的應用。本儀器還配有INCA X-射線能譜儀和EBSD背散射電子衍射系統，元素分析范圍為4Be~92U，同時可進行晶體結構和取向分析。

1、電鏡的分辨率：2 nm放大倍數：7 ~ 500,000

2、掃描電鏡分辨率：30kV高真空、低真空: 2.0nm；3kV低真空: 3.5nm

3、30kV透射掃描(STEM)分辨率：1.5nm；環境真空模式下30kV時，分辨率2.0nm

4、能譜元素分析范圍：5B~92U

5、EBSD空間分辨率(Al, 20kV): 0.1μm FEG SEM；角度分辨率優于0.5度

6、相鑒定功能：包括七大晶系，具有最大的相鑒定數據庫

主要功能

熱場發射環境掃描

可進行顯微形貌、顯微成分、顯微結構和顯微織構的分析測試。

技術特色

高技術服務

主要測試或應用領域

醫療/衛生,礦業/冶金,石油/化工,材料/珠寶首飾,食品/藥品,大氣/海洋/土壤/環境,天文,考古

聯系人姓名：趙文霞、程小寧

聯系人電話：84110783