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機(jī)構(gòu)登錄
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檢測(cè)認(rèn)證人脈交流通訊錄
- 儀器名稱：電感耦合等離子體反應(yīng)離子刻蝕機(jī)
- 價(jià)格型號(hào)：AST Cirie-200S
- 儀器分類：其他
- 應(yīng)用領(lǐng)域：禮品 工藝品;電子元器件;冶金礦產(chǎn)
- 所屬單位：中山大學(xué)
- 所在地點(diǎn)：海珠區(qū)新港西路135號(hào)
- 產(chǎn) 地：
- 產(chǎn) 商：臺(tái)灣聚昌科技股份有限公司
- 價(jià) 值：0
- 購置日期：2010-07-29
主要技術(shù)指標(biāo)
蝕刻反應(yīng)室抽氣速率：真空度<5.0×10^-5Torr(15分鐘內(nèi))；蝕刻反應(yīng)室極限真空：8.0×10^-6Torr；裝載室抽氣速率：真空度<5.0×10^-2Torr(5分鐘內(nèi))；蝕刻速率>280nm/min；非均勻性≤±5%
主要功能
進(jìn)行GaNg,GaAs,InP等材料的蝕刻
技術(shù)特色
真空環(huán)境下的半導(dǎo)體新材料制備
主要測(cè)試或應(yīng)用領(lǐng)域
材料/珠寶首飾,電子/信息技術(shù)
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