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機(jī)構(gòu)登錄
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檢測認(rèn)證人脈交流通訊錄
- 儀器名稱：磁控濺射臺
- 價格型號：PVD75
- 儀器分類：其他
- 應(yīng)用領(lǐng)域：其他
- 所屬單位：上海大學(xué)實驗設(shè)備處
- 所在地點：上海市寶山區(qū)上大路99號
- 產(chǎn) 地：美國
- 產(chǎn) 商：美國Kurt J.Lesker
- 價 值：0
- 購置日期：2010-09-20
聯(lián)系人：曾志剛(13818945625)、葉鋒杰(18810216468)
儀器簡介：
磁控濺射(射頻、直流)
基片旋轉(zhuǎn)、基片加熱、偏壓
可用程序控制鍍膜過程自動化
主要技術(shù)指標(biāo)：
2個射頻源，1個直流源，基片加熱溫度最高350度
應(yīng)用范圍：
主要應(yīng)用于：金屬、半導(dǎo)體及介質(zhì)層直流/交流磁控濺射
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