技術指標:極限真空度: 主濺射室6.6×10-5Pa,進樣室5×10-4Pa;工作真空度可調靶:磁控靶/射頻靶,水冷,射頻靶2×φ50,直流靶1×φ50 襯底: 多片樣品,可水冷,可加熱結構: 主濺射室φ350×280,夾壁水冷
儀器用途:金屬、非金屬材料薄膜制備
收費標準:30元/時
機組負責人:傅明喜 1395899379
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