技術指標:真空室:直徑600mm,高800mm 沉積溫度:室溫-300℃ 氣氛:10-4~10-5Pa
儀器用途:制備各種涂層和成型器件,制備任何金屬和非金屬及其化合物、微電子和光電子材料和薄膜的制作及各種特殊性能的晶態和非晶態材料,半導體化合物薄膜等。
收費標準:面議
機組負責人:李長生 13775320265
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