主要技術指標：1、Loadlock預抽真空；2、本底真空：2*10e-8 Torr；3、基板加熱，0-400度；4、基板旋轉速度可調，1-20 rpm；5、三路氣體，可反應濺射；6、五個2英寸濺射槍，和一個3英寸濺射槍；7、三個直流電源和一個射頻電源，可制備多層膜和合金薄膜。

功能/應用范圍：制備金屬和非晶屬薄膜，及多層膜。

主要測試和研究領域：電子/信息技術

收費標準：按樣品、小時數收費

儀器負責人：馬斌 電話：65642059

電子郵件：magnmb@fudan.edu.cn

通訊地址：邯鄲路220號復旦大學光科系

郵政編碼：200433