主要技術指標：極限真空：成膜室 1.210-6 Pa (load lock)準備室 6.710-4 Pa樣品尺寸：4寸(1片/次)可通3路氣體：Ar、N2、O2(50 sccm)。可做普通濺射、共濺射和反應濺射，可對樣品進行預濺射清洗；襯底溫度： 800 oC厚度均勻性：優于±3%靶材尺寸：2寸(磁性：2 mm厚；非磁性：5 mm厚)

功能/應用范圍：該設備是制備超薄金屬氧化物緩沖層、阻變薄膜、鐵電薄膜的關鍵設備.

技術特色：-

主要測試和研究領域：電子/信息技術

收費標準：其它收費方式

儀器負責人：林殷茵,陳潔 電話：65642198

電子郵件：zhoupengfudan@gmail.com