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機(jī)構(gòu)登錄
檢測(cè)認(rèn)證人脈交流通訊錄

主要技術(shù)指標(biāo):真空度5×10-10torr樣品溫度室溫~1000C PLD靶數(shù)量6個(gè)
功能/應(yīng)用范圍:在高氣分下生長高質(zhì)量的單晶薄膜
主要測(cè)試和研究領(lǐng)域:其他


